铜线键合连接截面观察

针对铜线键合连接的截面观察,制样的难点并不在于是否能够切到目标位置,而在于目标区域距离浅、结构细,一旦前段处理控制不稳,就很容易在真正观察之前先把样品做坏。对于这类样品来说,既要把铜凸点与铜线根部的真实连接界面稳定暴露出来,又要尽量避免硅片开裂、铜凸点过磨以及铜线根部在后续处理中受到拉伤或变形。也正因为目标区域本身容错空间很小,这类样品的制样过程往往比常规电子样品更考验前段控制。

对于这一类样品,客户早期通常沿用美国某字母 B 开头品牌的制样体系完成环氧镶嵌、细砂纸预磨以及后续金刚石抛光。方案本身能够得到稳定结果,但其设计重点更偏向安全控制而放弃了效率。原先整个方案的容错率非常低,对现场工程师的第一步控制要求非常高稍有偏差,就可能造成样品失效。

/private/var/folders/xq/4x17mhfj6z396z57d3b_kj0c0000gp/T/com.kingsoft.wpsoffice.mac/photoeditapp/20260412231415/temp.pngtemp

样品情况描述:
目标需要稳定显露出铜基座与铜线根部的状态。
已知距离大概只有约 0.3 mm
要求:
硅片不能裂纹。
铜基座不能过磨。
铜线根部被机械拉伤或变形。

客户原先使用的美国某字母B开头的品牌耗材与设置如下:

镶嵌耗材:Epoxy****(9小时固化的环氧树脂)配合25mm直径的模具,进行镶嵌固化。

研磨耗材:600 (P1200) Carbi*** 2:第一步手工研磨,用来把截面进一步稳定收口到接近焊点中心的位置。

抛光耗材:Tri**** + 3μm 单晶抛光液:是把前一步留下的制样损伤磨掉,同时在尽量不破坏铜线根部形貌的前提下,把目标区域稳定显现出来。

                         Chemo*** +98 ml Master*** 0.06 μm + 1 ml 过氧化氢 + 1 ml 氢氧化铵(现在特调的抛光液)化学辅助终抛做为最后终抛。

整体的制样时间如下:
镶嵌花费时间: 9小时 初磨花费时间: 1-1.5分钟
    初抛花费时间: 5-6分钟
    终抛花费时间: 2-3分钟
整体制样花费时间: 9小时8分钟-9小时10分钟

 

根据客户的样品情况,本次应用的方案如下:

 

/private/var/folders/xq/4x17mhfj6z396z57d3b_kj0c0000gp/T/com.kingsoft.wpsoffice.mac/photoeditapp/20260413085331/temp.pngtemp

 

镶嵌耗材:Grampus Pyros9040-L(后面简称GP) 配合30mm直径的模具,进行镶嵌固化。

推荐理由:对于这类精细样品,镶嵌阶段更重要的不是单纯追求固化速度,而是在保证固化完成的前提下,尽量降低温升和收缩对样品的影响。GP9040-L 可通过调整固化程序,将原先约 10 分钟的标准固化方式延长至约 20 分钟,甚至30分钟、40分钟(按样品的需要),以更缓和的固化节奏实现更低温、超低收缩的镶嵌效果,从而更有利于保护样品的细微结构和真实连接状态。

 

126a1181a9d80b15548ac3e464489e1a

 

研磨耗材:SiC: 1200(P4000)300mm做为初磨的耗材。

推荐理由:观察位置距离仅约 0.3 mm 的样品,研磨尽量提高接近目标层位时的可控性。P4000 属于较细粒度砂纸,约 5 μm 的研磨等级更适合这种容错空间很小的样品,能够在前段处理中减缓材料去除速度,使工程师在接近目标区域时拥有更高的控制余量,降低过磨风险,更有利于保护样品的精细结构。300mm直径的大尺寸,是让盘面更稳,不容易磨偏。300mm更重要的是能够配合全自动磨抛机,在这种精细的样品面前,能够保持低压力夹持状态,能够整个过程稳定的输出,保持样品的原始面貌。

 

 

抛光耗材:LAMPLAN 4FV3抛光布300mm+LAMPLAN 1mme单晶抛光液。
LAMPLAN的4MP2抛光布300mm+LAMPLAN0.05微米FINAL二氧化硅抛光液。

推荐理由:该方案将终抛阶段进一步细化为两个衔接更清晰的步骤:先采用 LAMPLAN 4FV3 抛光布 300mm 搭配 1 µm 单晶抛光液,对前道工序残留的细微划痕进行进一步收窄,使样品表面状态更加均匀;再采用 LAMPLAN 4MP2 抛光布 300mm 搭配 0.05 µm FINAL 二氧化硅抛光液 进行最后终抛,进一步改善表面细节状态,使观察面更加整洁、清晰。相比将终抛效果集中压在单一步骤上,这样的两段式处理逻辑更清楚,更有利于把表面质量稳定下来。与此同时,FINAL 二氧化硅抛光液属于稳定悬浮型高浓度抛光液,现场使用时无需临时调配,操作更直接,减少了因配比变化带来的结果波动,更适合需要兼顾终面效果与制样一致性的应用场景。

 

 

抛光设备:Masterlam 3.5AIV+自动滴液系统,磨抛机进行,第二道研磨,第三道研磨以及抛光。

推荐理由:Masterlam 3.5AIV 搭配自动滴液系统,可在同一台设备上完成手动预磨与自动磨抛。前段通过手动模式配合超细砂纸完成第一步表面修整,后段切换至自动磨抛后,借助压力自动补偿系统使样品在磨抛过程中受力更加稳定,材料去除更加均匀,更有利于提升磨抛的精细程度与表面处理质量。自动滴液系统可持续、稳定地供给磨抛介质,减少人工加液带来的波动,使整个磨抛过程更连贯,也更有利于获得更一致、更细致的制样效果。

 

整体的制样实际时间如下:
GP9040-L镶嵌花费时间: 20分钟 GP(P4000)碳化硅砂纸第一道研磨花费时间: 1分钟
    LAMPALN 4FV3抛光布+1微米抛光抛光花费时间: 3分钟
    LAMPALN 4MP2抛光布+0.05微米氧化硅抛光液抛光花费时间: 3分钟
整体制样花费时间: 27分钟

 

真实样品效果图:

 

img6 img7
1000X 2000X

 

案例解析

客户后来转向这套方案,并不是因为原来的路线做不出结果,而是因为放到日常制样里,原方案的节奏偏慢现场推进起来不够利落。对这类样品来说,研磨能不能有足够地容错率,让样品观察位稳稳地接近目标位置,影响整个制样效率的。砂纸做得更细以后,前段下手会更从容一些,留给现场修正的余地也更大,不容易一下做过头。到了抛光阶段,抛光液可以直接用,这一点对现场帮助很明显,省去了现场工程师临时配抛光液的步骤。再加上后面的抛光交给自动设备来操作,压力、时间、加液这些条件都比较稳定,样品做出来更整齐,现场工程师能轻松地得到结果一致地制样效果。对客户来说,最后选这套,不是因为它看上去步骤多漂亮,而是因为它放到现场确实更顺:研磨更好控,抛光更省事,结果也更稳,更一致。

 

最终客户采购产品清单:  
Grampus Pyros光固化树脂GP9040-L Grampus Pyros光固化机
Grampus Pyros碳化硅砂纸(P4000),300mm LAMPLAN 4FV3抛光布,300mm+1mme单晶金刚石抛光液
  LAMPALN 4MP2抛光布+0.05微米氧化硅抛光液
Masterlam 3.5AIV+自动滴液系统  
以上制样及数据由Grampus Pyros实验室提供。