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PCB 镀铜通孔微切片制样方案
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现场样品情况 客户需要通过 PCB 镀铜通孔微切片,准确测量孔壁镀铜层厚度,并判断孔铜是否连续、均匀,是否存在薄铜、断镀、裂纹、空洞或孔壁缺陷。同时,客户还关注通孔与线路层之间的互连完整性,以及孔内是否存在气泡、空隙、分层、裂纹和树脂残留等异常。最终样品要能支持显微观察、尺寸测量和缺陷判断,用于 PCB 制程管控、来料/出货质量验证、可靠性评估和失效分析。现场的要求很明确:样品要看得清、测得准、批次间稳定,还要让新工程师能较快掌握。 |
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制样难点 目标截面位置小:通孔孔径有限,稍微磨过中心线,孔铜厚度和互连判断就会失真。 材料差异大:铜、焊料、玻纤、树脂和层压基材的去除速度不同,容易出现拖尾、边缘圆化和界面发糊。 镶嵌支撑要求高:树脂没有充分进入孔内或样品边缘,后续研磨时孔壁容易崩边,孔内也更容易出现气泡假象。 一致性难控制:同样的设备,不同操作者在压力、时间和观察停点上略有差异,最终截面质量就会波动。 |
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传统环氧镶嵌方式的问题梳理 传统环氧镶嵌一般需要先按比例称量树脂和固化剂,再进行充分搅拌,搅拌完成后放入真空设备中抽气排泡,最后等待树脂自然固化。这个流程本身可以完成样品包埋,但步骤比较多,每一步都需要人为判断和控制。 对 PCB 镀铜通孔微切片来说,环氧镶嵌的主要问题在于操作窗口比较紧,固化时间又比较长。树脂和固化剂一旦混合,反应就已经开始,后面的搅拌、排泡、浇注都需要在有限时间内完成。新人刚接触时,需要反复熟悉材料状态、排泡节奏和固化判断,培训成本会比较高。 |
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LAMPLAN整套制样方案 LAMPLAN方案不是单独替换某一种耗材,而是把 PCB 镀铜通孔微切片的取样、镶嵌、研磨、抛光和自动控制连成一套流程。前段通过精准切割和光固化真空镶嵌,把样品位置和包埋支撑先做好;后段通过分段研磨、分级抛光和自动磨抛控制,让截面质量更稳定,减少对个人手法的依赖。 |
| 制样环节 | LAMPLAN设备/耗材 | 关键做法 | 产品特点 | 现场体现 |
| 取样定位 | CUTLAM micro 3.0智能切割机 | 使用激光定位确认切割位置,在封闭切割腔内完成PCB目标孔区域切割。 | 智能切割、激光定位、封闭式切割腔。 | 定位更直观,切割更省事;封闭切割环境也让操作更安全。 |
| 光固化真空镶嵌 | LAMPLAN光固化树脂 + 真空光固化设备 | 真空浸润和光固化结合,让树脂进入通孔、板边和微小孔隙后快速固化。 | 真空排泡、光照固化、树脂包覆性好。 | 样品包裹更充分,微孔渗入效果更好,同时减少等待和人工盯守。 |
| 分段研磨 | LAMPLAN SiC砂纸 P800 / P1200 / P2400 | 从P800起步,再用P1200、P2400逐级细化表面。 | 粒度衔接清楚,去除量更容易控制。 | 容错空间更高,不容易一下磨过目标位置,新人也更容易按步骤执行。 |
| 分级抛光 | 2TS4 + 3μm金刚石;4FV3 + 1μm金刚石;4MP2 + 0.05μm氧化铝 | 按粗抛、精抛、终抛逐步去除划痕,最后提升孔壁铜层和基材界面清晰度。 | 抛光布和抛光液分工明确,适合逐级降低表面损伤。 | 截面更容易做清楚,孔铜边界、层间互连和微小缺陷更利于观察。 |
| 自动磨抛控制 | Mastaler 3.0自动磨抛系统 | 配合压力补偿和自动滴液完成研磨、抛光过程。 | 压力补偿、自动滴液、参数化运行。 | 样品受力更稳定,抛光液分布更均匀;耗材用量更可控,也不用人员一直盯着设备。 |
| 这套流程的重点,是让每一步都有明确设备和耗材对应。切割阶段先把位置找准,镶嵌阶段把样品包稳,研磨阶段留出足够容错空间,抛光阶段逐级降低表面损伤,最后再通过自动磨抛系统把压力、滴液和时间稳定下来。这样做出来的通孔截面,更适合后续拍照、测厚和缺陷判断。 |
| 制样结果 |
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方案结论 PCB 镀铜通孔微切片制样,关键在于把通孔结构真实、清楚地呈现出来。切割位置准确,镶嵌支撑充分,研磨过程可控,抛光界面清晰,后续的孔铜测厚、互连观察和缺陷判断才有可靠依据。 LAMPLAN方案把切割、真空光固化镶嵌、分段研磨、分级抛光和自动磨抛控制串成一套完整流程。每一步都有明确的设备、耗材和控制点,让样品从取样到显微观察都更稳定、更顺畅,也更容易形成统一的实验室操作标准。 通过这套制样方式,PCB 通孔截面可以获得更清晰的孔壁铜层边界、更稳定的样品支撑和更一致的抛光效果。 |

