MASTERLAM 1.1大直径中央压力自动磨抛机

350-400 mm大盘面自动磨抛设备，适用于大面积样品和高压力制样

MASTERLAM 1.1大直径中央压力自动磨抛机

大面积样品的中央压力自动磨抛平台

MASTERLAM 1.1用于大面积样品和高压力中央压力磨抛。设备支持350-400 mm大盘面，中央压力5-450 N，可处理6个60 mm样品。

大盘面带来更大的样品布置空间，也更适合大尺寸镶嵌样、机械零件和需要更高扭矩的磨抛任务。配合DISTRILAM自动滴液系统和透明防护罩后，可形成更完整的自动制样工位。

适合处理的样品

结构与配置特点

透明防护罩配置

MASTERLAM 1.1的配置重点在大盘面、大压力和大样品。盘面尺寸、主电机功率、中央压力和样品容量都围绕大面积制样展开。

设备配置	具体表现	对选型和使用的价值
350-400 mm盘面	比常规盘面提供更大工作区域。	适合大面积样品和大直径夹具。
5-450 N中央压力	加载能力高，适合大样品制样。	大面积磨抛时压力余量更充足。
2.2 kW主电机	为大盘面和高负载提供动力。	处理大面积样品更稳定。
250 W样品头电机	样品头10-150 rpm，双向旋转。	研磨和抛光过程可控。
自动压力补偿系统	在磨抛的过程中，自动检测下压样品的压力,让压力始终保持一致。	样品在磨抛的过程中，不会因磨抛去除量而降低压力，能得到一致和更平整的样品表面。
摆动头选项	速度和幅度可调。	提高盘面使用均匀性，延长耗材寿命。
60个程序存储	支持USB备份和以太网连接。	大样品固定方法可长期复用。
运行中参数调整	压力、速度、时间和滴液可在运行中调整。	现场调机更灵活。

大盘面耗材、DISTRILAM自动滴液系统与透明防护罩

MASTERLAM 1.1需要按350-400 mm盘面选择砂纸、抛光布和磁性盘。大盘面耗材面积更大，滴液方式和抛光液分布更要稳定。

DISTRILAM四通道自动滴液系统可由设备程序控制，用于自动加液和定量供液。透明防护罩作为安全配置使用，能减少飞溅并保持设备可视性。

耗材应用建议

磨抛机可适用铝盘、基础磨盘、快速转换盘系统、CAMEO研磨盘、SiC砂纸、TOUCHLAM抛光布和各类抛光液。现场工程师可以按样品材料、制样阶段和耗材更换频率选择对应组合。

CAMEO研磨盘用于研磨和预抛阶段

SiC砂纸用于研磨阶段

制样环节	适用耗材	使用价值
基础承载	铝盘/基础磨盘，可按200、230、250、300或400 mm盘面选择。	适用于承载砂纸、抛光布、磁性盘和各类快速转换盘系统。
快速转换盘系统	FAS双面自粘盘、FMS磁性盘、FIX LAM不粘盘、XLAM 4接触式固定盘。	适用于快速更换自粘、非自粘或磁性耗材，减少换盘和清洁时间。
研磨/预抛	CAMEO DISK蜂窝结构研磨盘，可按材料选择不同系列。	适用于研磨和预抛阶段，可减少多道砂纸切换，保持稳定去除。
研磨	SiC砂纸P800、P1200、P2400、P4000。	适用于逐步细化切割和镶嵌后的划痕，给抛光阶段留出稳定基础。
粗抛/中抛	TOUCHLAM抛光布 + 金刚石抛光液。	适用于按材料硬度和目标表面选择抛光布，提升划痕去除效率。
最终抛光	氧化铝、胶体二氧化硅或对应最终抛光液。	适用于获得更细的表面状态，便于显微观察。

适合作为大面积自动磨抛设备

MASTERLAM 1.1适合大样品、大盘面和高压力中央压力制样。它把更大的盘面、更高压力和更强动力集中在一台自动磨抛设备上。

当样品面积、夹具尺寸和压力需求都比较高时，MASTERLAM 1.1可以作为大面积制样工位的核心设备。

适用建议

适合大面积样品、大直径夹具和高压力中央压力制样。

适合需要350-400 mm盘面、DISTRILAM自动滴液系统和透明防护罩的自动磨抛工位。

适合机械零件、结构件、大镶嵌样和高负载制样场景。

技术参数

产品介绍

PRODUCT INTRODUCTION

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