MASTERLAM 3.0中央单点压力自动磨抛机

中央压力与单点压力一体化，适用于复杂样品和高一致性自动制样

MASTERLAM 3.0中央/单点压力自动磨抛机

中央压力和单点压力兼顾的自动磨抛平台

MASTERLAM 3.0用于高要求自动研磨和抛光。设备可在中央压力和单点压力之间切换，中央压力范围5-400 N，单点压力范围5-100 N。

这种组合压力结构适合样品规格变化较多的实验室。现场工程师可根据样品形状、尺寸和材料状态选择压力方式，并把成熟方法保存为程序。

适合处理的样品

结构与配置特点

中央/单点压力组合样品头

MASTERLAM 3.0的重点是压力方式灵活。中央压力适合同批样品一致处理，单点力适合样品状态存在差异的情况。

设备配置	具体表现	对选型和使用的价值
组合压力样品头	中央压力5-400 N，单点压力5-100 N。	一台设备覆盖两类制样策略。
6个加压头结构	单点压力模式下每个样品独立受力。	样品差异较大时更容易保持稳定。
自动压力补偿系统	在磨抛的过程中，自动检测下压样品的压力,让压力始终保持一致。	样品在磨抛的过程中，不会因磨抛去除量而降低压力，能得到一致和更平整的样品表面。
屏幕切换压力模式	压力模式通过触摸屏控制。	切换流程更直接。
250-300 mm盘面	适配常规自动磨抛耗材。	耗材体系成熟，方法容易建立。
双向旋转	盘面20-650 rpm，样品头10-150 rpm。	覆盖研磨、抛光和最终抛光。
60个程序存储	支持USB备份和以太网连接。	固定方法可保存和复用。
DISTRILAM集成	四通道自动滴液系统由设备控制，可自动加液、定量供液。	抛光液供应更稳定，耗材成本更可控。

样品夹具、DISTRILAM自动滴液系统与去除量控制

MASTERLAM 3.0可根据中央压力或单点压力选择对应样品夹具。样品尺寸、镶嵌直径和压力模式要一起确认，夹具匹配好后，制样结果更稳定。

DISTRILAM四通道自动滴液系统可把金刚石抛光液、润滑液和最终抛光液纳入设备程序，实现自动加液和定量供液。去除量控制可作为配置选项，用于需要定量磨抛的样品。

耗材应用建议

磨抛机可适用铝盘、基础磨盘、快速转换盘系统、CAMEO研磨盘、SiC砂纸、TOUCHLAM抛光布和各类抛光液。现场工程师可以按样品材料、制样阶段和耗材更换频率选择对应组合。

CAMEO研磨盘用于研磨和预抛阶段

SiC砂纸用于研磨阶段

制样环节	适用耗材	使用价值
基础承载	铝盘/基础磨盘，可按200、230、250、300或400 mm盘面选择。	适用于承载砂纸、抛光布、磁性盘和各类快速转换盘系统。
快速转换盘系统	FAS双面自粘盘、FMS磁性盘、FIX LAM不粘盘、XLAM 4接触式固定盘。	适用于快速更换自粘、非自粘或磁性耗材，减少换盘和清洁时间。
研磨/预抛	CAMEO DISK蜂窝结构研磨盘，可按材料选择不同系列。	适用于研磨和预抛阶段，可减少多道砂纸切换，保持稳定去除。
研磨	SiC砂纸P800、P1200、P2400、P4000。	适用于逐步细化切割和镶嵌后的划痕，给抛光阶段留出稳定基础。
粗抛/中抛	TOUCHLAM抛光布 + 金刚石抛光液。	适用于按材料硬度和目标表面选择抛光布，提升划痕去除效率。
最终抛光	氧化铝、胶体二氧化硅或对应最终抛光液。	适用于获得更细的表面状态，便于显微观察。

适合作为高配置自动磨抛设备

MASTERLAM 3.0适合样品类型复杂、制样要求高、需要长期稳定重复的实验室。中央压力和单点压力结合后，设备对不同样品的适应范围更宽。

它适合把研磨、抛光、滴液和程序管理整合成固定流程，用于高一致性金相制样。

适用建议

适合中央压力和单点压力都需要的金相实验室。

适合样品规格变化较多、材料种类复杂的制样场景。

适合需要自动滴液系统、程序存储和高一致性磨抛流程的现场。

技术参数

产品介绍

PRODUCT INTRODUCTION

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