LAMPLAN TOUCHLAM 2TS3金相抛光布

产品特点

具体表现

对客户选型的价值

覆盖完整抛光阶段

粗抛、精抛、软材料精抛、最终抛光都有对应布面。

按制样流程即可定位用途，选型逻辑更直观。

布面结构对应材料状态

天然纤维、合成纤维、绒面、微孔聚氨酯等结构各有侧重。

硬材料看划痕去除，软材料看拖尾控制，多材料样品看平面过渡。

抛光液搭配清楚

可配金刚石抛光液、氧化铝、胶体二氧化硅和最终抛光液。

现场工程师建立方法时，粒径和布面之间的关系更清楚。

固定方式灵活

可适用自粘和磁性固定方式，也可配合快速转换盘系统。

FAS双面自粘盘、FMS磁性盘、FIX LAM不粘盘、XLAM 4接触式固定盘都能纳入同一耗材体系。

适合标准化制样

抛光布、砂纸、研磨盘和抛光液一起配置后，流程更容易复用。

重复样品的制样节奏更稳定，现场工程师之间的方法交接更顺。

项目

TOUCHLAM 2TS3

布面结构

薄型缎纹天然纤维。

推荐抛光介质

2-9微米金刚石抛光液。

主要用途

通用精抛、硬材料最终抛光、边缘和夹杂物保持。

材料方向

钢铁、硬质材料、涂层样品、夹杂物分析样品。

使用价值

在表面细化时保持组织边界和夹杂物状态，适合显微观察前的关键步骤。

应用方向

制样关注点

2TS3的使用位置

夹杂物观察

夹杂物容易被拉出或边界模糊。

2TS3用于保持夹杂物和基体之间的状态。

钢铁金相

组织边界需要清晰，表面划痕要少。

2TS3 + 3微米金刚石抛光液用于精抛。

硬材料样品

最终表面需要兼顾平面度和细腻度。

2TS3可作为硬材料最终抛光前的精抛布。

涂层截面

涂层边缘和基体过渡需要稳定。

2TS3适合用于边缘保持要求较高的样品。

制样阶段

耗材组合

使用目的

前道研磨

SiC砂纸P800 / P1200 / P2400。

去除切割痕并建立平面。

粗抛

TOUCHLAM 2TT1或2TT2 + 6微米金刚石抛光液。

处理主要研磨痕。

精抛

TOUCHLAM 2TS3 + 3微米金刚石抛光液。

保持夹杂物和边缘状态。

最终抛光

TOUCHLAM 3FV1或4FV3 + 1微米金刚石抛光液。

提升观察面细腻度。

型号

布面结构

推荐抛光介质

主要应用

2TT1

塔夫绸合成纤维

6-15微米金刚石抛光液

韧性材料和难抛材料的粗抛。

2TS3

薄型缎纹天然纤维

2-9微米金刚石抛光液

通用精抛，适合保持夹杂物和边缘。

2TS4

缎纹天然纤维

1-6微米金刚石抛光液

高耐用精抛，适合硬度差异较大的材料和涂层样品。

3SE2

合成丝织物

1-3微米金刚石抛光液

软材料精抛，兼顾表面状态和平面度。

3FV1

半硬短纤维绒面

1-3微米金刚石抛光液

硬质镶嵌样的最终抛光和平面保持。

4FV3

柔软长纤维绒面

0.25-3微米金刚石抛光液

软到中硬材料的最终抛光，可配氧化铝或胶体二氧化硅。

4MP2

厚型微孔聚氨酯泡沫

氧化物、胶体二氧化硅

耐用最终抛光，适合生产型流程。