LAMPLAN TOUCHLAM 2TT2金相抛光布

产品特点

具体表现

对客户选型的价值

覆盖完整抛光阶段

粗抛、精抛、软材料精抛、最终抛光都有对应布面。

按制样流程即可定位用途，选型逻辑更直观。

布面结构对应材料状态

天然纤维、合成纤维、绒面、微孔聚氨酯等结构各有侧重。

硬材料看划痕去除，软材料看拖尾控制，多材料样品看平面过渡。

抛光液搭配清楚

可配金刚石抛光液、氧化铝、胶体二氧化硅和最终抛光液。

现场工程师建立方法时，粒径和布面之间的关系更清楚。

固定方式灵活

可适用自粘和磁性固定方式，也可配合快速转换盘系统。

FAS双面自粘盘、FMS磁性盘、FIX LAM不粘盘、XLAM 4接触式固定盘都能纳入同一耗材体系。

适合标准化制样

抛光布、砂纸、研磨盘和抛光液一起配置后，流程更容易复用。

重复样品的制样节奏更稳定，现场工程师之间的方法交接更顺。

项目

TOUCHLAM 2TT2

布面结构

塔夫绸合成纤维。

推荐抛光介质

6-15微米金刚石抛光液。

主要用途

高耐用粗抛，适合难抛材料和固定方法制样。

材料方向

高韧性金属、镍基合金、不锈钢、钛合金和批量金相样品。

使用价值

延长粗抛布使用节奏，适合重复样品和较固定的制样流程。

应用方向

制样关注点

2TT2的使用位置

批量金属样品

同类样品连续制样，粗抛布消耗快。

2TT2用于提高粗抛阶段的稳定性。

镍基合金

材料去除慢，粗抛时间较长。

2TT2适合配合9微米或6微米金刚石抛光液。

不锈钢样品

表面韧性强，划痕处理需要耐用布面。

2TT2可作为固定粗抛步骤。

生产检验样品

方法需要重复，现场节奏要稳定。

2TT2适合固定流程中的粗抛位置。

制样阶段

耗材组合

使用目的

前道研磨

SiC砂纸P800 / P1200 / P2400。

统一样品进入粗抛前的表面状态。

粗抛

TOUCHLAM 2TT2 + 9微米金刚石抛光液。

处理研磨痕，保持粗抛节奏。

精抛

TOUCHLAM 2TS4 + 3微米金刚石抛光液。

继续细化表面。

最终抛光

TOUCHLAM 4FV3或4MP2 + 最终抛光液。

按观察要求完成表面整理。

型号

布面结构

推荐抛光介质

主要应用

2TT1

塔夫绸合成纤维

6-15微米金刚石抛光液

韧性材料和难抛材料的粗抛。

2TT2

塔夫绸合成纤维

6-15微米金刚石抛光液

高耐用粗抛，适合需要保持平面度的材料。

2TS4

缎纹天然纤维

1-6微米金刚石抛光液

高耐用精抛，适合硬度差异较大的材料和涂层样品。

3SE2

合成丝织物

1-3微米金刚石抛光液

软材料精抛，兼顾表面状态和平面度。

3FV1

半硬短纤维绒面

1-3微米金刚石抛光液

硬质镶嵌样的最终抛光和平面保持。

4FV3

柔软长纤维绒面

0.25-3微米金刚石抛光液

软到中硬材料的最终抛光，可配氧化铝或胶体二氧化硅。

4MP2

厚型微孔聚氨酯泡沫

氧化物、胶体二氧化硅

耐用最终抛光，适合生产型流程。