LAMPLAN TOUCHLAM 3FV1金相抛光布

半硬短纤维绒面抛光布，适合硬质镶嵌样最终抛光

TOUCHLAM抛光布产品图

LAMPLAN TOUCHLAM整体特点

TOUCHLAM是LAMPLAN用于金相制样的抛光布系列，覆盖金相粗抛、精抛和最终抛光。选型时可围绕材料硬度、布面结构、抛光液粒径和固定方式来判断，适合把金相抛光流程做成清楚、可复制的方法。

产品特点	具体表现	对客户选型的价值
覆盖完整抛光阶段	粗抛、精抛、软材料精抛、最终抛光都有对应布面。	按制样流程即可定位用途，选型逻辑更直观。
布面结构对应材料状态	天然纤维、合成纤维、绒面、微孔聚氨酯等结构各有侧重。	硬材料看划痕去除，软材料看拖尾控制，多材料样品看平面过渡。
抛光液搭配清楚	可配金刚石抛光液、氧化铝、胶体二氧化硅和最终抛光液。	现场工程师建立方法时，粒径和布面之间的关系更清楚。
固定方式灵活	可适用自粘和磁性固定方式，也可配合快速转换盘系统。	FAS双面自粘盘、FMS磁性盘、FIX LAM不粘盘、XLAM 4接触式固定盘都能纳入同一耗材体系。
适合标准化制样	抛光布、砂纸、研磨盘和抛光液一起配置后，流程更容易复用。	重复样品的制样节奏更稳定，现场工程师之间的方法交接更顺。

代表型号：TOUCHLAM 3FV1

TOUCHLAM 3FV1抛光布

TOUCHLAM 3FV1为半硬短纤维绒面抛光布，适合硬质镶嵌样的最终抛光，通常配合1-3微米金刚石抛光液使用。它适合在保持平面度的同时提升表面细腻度，用于显微观察前的关键后段抛光。

项目	TOUCHLAM 3FV1
布面结构	半硬短纤维绒面。
推荐抛光介质	1-3微米金刚石抛光液。
主要用途	硬质镶嵌样最终抛光和平面保持。
材料方向	硬质镶嵌样、钢铁、硬质合金、硬质涂层截面。
使用价值	在最终抛光阶段保持平面度，减少表面细节被过度扰动。

TOUCHLAM 3FV1适合的应用

3FV1适合硬质镶嵌样后段抛光，重点是平面保持和最终表面质量。

应用方向	制样关注点	3FV1的使用位置
硬质镶嵌样	镶嵌样需要保持表面平整。	3FV1 + 1微米或3微米金刚石抛光液用于最终抛光。
硬质合金	表面硬度高，最终阶段仍需细化。	3FV1用于提升观察面。
钢铁样品	组织观察前需要更细表面。	3FV1适合精抛后的后段整理。
涂层截面	涂层边缘需要保持稳定。	3FV1适合平面保持要求高的截面样品。

推荐案例：硬质镶嵌样最终抛光

硬质镶嵌样在后段抛光中需要兼顾表面细节和平面保持。3FV1适合放在最终抛光前后段使用。

制样阶段	耗材组合	使用目的
前道研磨	SiC砂纸P800 / P1200 / P2400 / P4000。	逐步细化研磨痕。
精抛	TOUCHLAM 2TS3或2TS4 + 3微米金刚石抛光液。	处理主要细划痕。
最终抛光	TOUCHLAM 3FV1 + 1微米金刚石抛光液。	保持平面并提升表面细节。
补充抛光	TOUCHLAM 4MP2 + 氧化铝或胶体二氧化硅。	按观察要求进一步细化。

快速转换盘系统与固定方式

TOUCHLAM抛光布可适用自粘和磁性固定方式。现场需要频繁切换砂纸、研磨盘和抛光布时，可配合FAS双面自粘盘、FMS磁性盘、FIX LAM不粘盘、XLAM 4接触式固定盘等快速转换盘系统。换布、换盘和清洁更直接，制样流程也更容易固定下来。

FMS磁性盘固定方式示意

其他TOUCHLAM型号速查

型号速查用于补齐粗抛、精抛、软材料抛光和最终抛光阶段。现场工程师可按材料状态和目标表面继续选择对应抛光布。

型号	布面结构	推荐抛光介质	主要应用
2TT1	塔夫绸合成纤维	6-15微米金刚石抛光液	韧性材料和难抛材料的粗抛。
2TS4	缎纹天然纤维	1-6微米金刚石抛光液	高耐用精抛，适合硬度差异较大的材料和涂层样品。
3SE2	合成丝织物	1-3微米金刚石抛光液	软材料精抛，兼顾表面状态和平面度。
3FV1	半硬短纤维绒面	1-3微米金刚石抛光液	硬质镶嵌样的最终抛光和平面保持。
4FV3	柔软长纤维绒面	0.25-3微米金刚石抛光液	软到中硬材料的最终抛光，可配氧化铝或胶体二氧化硅。
4MP2	厚型微孔聚氨酯泡沫	氧化物、胶体二氧化硅	耐用最终抛光，适合生产型流程。

建立完整的抛光方案

LAMPLAN TOUCHLAM 3FV1适合按材料和制样阶段纳入抛光流程。先确定样品类型、前道研磨粒度和目标观察面，再选择布面结构、抛光液粒径和固定方式，制样路线会更清楚。把3FV1放在合适的制样位置后，可继续向前衔接砂纸或粗抛布，向后衔接最终抛光布和最终抛光液，形成一条更容易落地的金相抛光方案。

产品介绍

PRODUCT INTRODUCTION

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