LAMPLAN SiC STANDARD金相碳化硅砂纸

P80-P4000,从粗磨到精磨的稳定研磨耗材

LAMPLAN金相碳化硅砂纸产品图

金相制样前道研磨耗材

碳化硅砂纸是金相制样中使用频率很高的前道耗材。切割后、镶嵌后或进入抛光前,现场工程师通常会用不同粒度逐步去除切割痕、整平表面,并把划痕控制到后续抛光可以处理的状态。

LAMPLAN SiC STANDARD金相碳化硅砂纸覆盖P80-P4000,适合把粗磨、中磨、细磨和精磨放在同一套耗材体系里管理。对于PCB切片、焊点截面、金属材料分析和常规质量检测,P2400和P4000常用于抛光前的精细研磨阶段。

LAMPLAN碳化硅砂纸特点

产品特点

具体表现

对现 场制样的价值

P80-P4000粒度覆盖

覆盖粗磨、中磨、细磨和精磨阶段,P2400、P4000可用于抛光前的表面整理。

现场工程师可以按前道切割痕和观察要求选择粒度,流程更容易固定。

FEPA粒度校准

碳化硅磨粒按欧洲FEPA标准进行粒度控制。

同一粒度的研磨状态更稳定,批量样品之间更容易保持一致。

耐热耐湿树脂体系

磨粒保持力稳定,适合金相制样中常见的湿磨环境。

研磨时砂纸状态更稳定,后续抛光承接更顺。

电静取向磨粒

磨粒取向通过电静工艺形成,研磨接触更有规律。

表面划痕方向和深浅更容易控制,减少后续返工压力。

背胶与非背胶可选

可按设备盘面和固定方式选择自粘或非自粘形式。

适配常规磨抛机、铝盘、磁性盘和快速转换盘系统。

 

粒度覆盖与使用位置

SiC STANDARD碳化硅砂纸覆盖粗磨到精磨阶段

制样阶段

常用粒度

 使用目的

粗磨

P80 / P120 / P180 / P240

去除明显切割痕,建立基础平面。

中磨

P320 / P400 / P600

继续降低前道划痕,调整样品表面状态。

细磨

P800 / P1000 / P1200

让样品进入抛光前的可控过渡阶段。

精磨

P2400 / P4000

细化抛光前表面,常用于PCB切片、焊点截面和精细金相样品。

 

适合的应用场景

不同粒度砂纸用于逐步控制研磨表面

应用方向

制样关注点

 砂纸使用位置

常规金相制样

切割后或镶嵌后的样品需要逐步整平。

从粗磨到精磨按样品状态选择起始粒度。

PCB切片分析

铜层、树脂、玻纤和孔壁区域对表面状态敏感。

P1200、P2400、P4000常用于接近目标截面后的细化研磨。

焊点截面观察

焊料、铜层和基材界面需要清楚呈现。

细磨阶段控制划痕深度,为后续抛光布和抛光液打基础。

黑色金属与有色金属

钢铁、铝、铜及合金样品制样频率高。

按材料硬度和前道粗糙度选择对应粒度。

质量检测实验室

样品数量多,制样步骤需要稳定复用。

粒度、盘面尺寸和固定方式明确,日常补货和方法管理更清楚。

 

推荐研磨与抛光衔接

制样阶段

耗材组合

 使用目的

切割或镶嵌后

观察切割痕深浅、样品硬度和目标截面位置。

确定起始砂纸粒度,先建立平整研磨面。

基础研磨

P240 / P320 / P600,可按表面粗糙度选择。

去除明显切割痕和镶嵌后表面不平。

细化研磨

P800 / P1200 / P2400。

逐步降低前道研磨痕,让样品进入可抛光状态。

抛光前整理

P4000,或根据样品状态停在P2400后进入抛光。

把表面划痕控制在后续抛光液可以处理的范围。

抛光

TOUCHLAM抛光布 + NEODIA金刚石抛光液。

承接P2400/P4000后的细划痕,进入精抛阶段。

最终抛光

TOUCHLAM最终抛光布 + 0.05微米氧化铝,或胶体二氧化硅。

整理最终观察面,提升组织、界面和边缘区域的清晰度。

 

规格清单

项目

 内容

产品系列

SiC STANDARD金相碳化硅砂纸。

粒度范围

P80-P4000。

常用尺寸

Ø200 / Ø230 / Ø250 / Ø300 mm,可按设备盘面选择。

供货形式

自粘和非自粘可选,常规为100片/盒。

使用方式

适合湿磨流程,可与常规磨抛设备和固定盘系统配套。

后续衔接

TOUCHLAM抛光布、NEODIA金刚石抛光液、氧化铝最终抛光液。

 

前道研磨决定后续表面质量

LAMPLAN SiC STANDARD金相碳化硅砂纸覆盖P80-P4000,可用于切割后整平、镶嵌后修整和抛光前精磨。粗粒度负责去除明显切割痕,中间粒度逐步收细划痕,P2400、P4000则用于抛光前的表面整理。

在金相制样中,砂纸阶段越稳定,后续抛光就越容易接上。对于金属材料、PCB切片、焊点截面和常规质量检测,前道研磨控制好了,样品表面会更平整,划痕过渡更清楚,最终观察面也更容易保持一致。

产品介绍

PRODUCT INTRODUCTION