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LAMPLAN NEODIA M 0.25微米单晶金刚石抛光液
经济型金刚石抛光液,适用于有色金属、黑色金属及常规金相精抛

NEODIA金刚石抛光液产品图
LAMPLAN NEODIA金刚石抛光液特点
NEODIA M 0.25微米用于金相研磨后的抛光阶段。选型时可围绕材料类型、前道砂纸粒度、抛光布和目标观察面来判断,适合把金刚石抛光液、TOUCHLAM抛光布和磨抛设备组合成稳定流程。
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产品特点 |
具体表现 |
对 客户选型的价值 |
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经济型日常抛光 |
单晶金刚石颗粒适合常规金相制样。 |
适合样品数量多、使用频率高的实验室。 |
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材料覆盖面广 |
可覆盖有色金属、黑色金属及部分复合材料样品。 |
同一系列可用于多类日常样品,选型更直接。 |
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适合固定流程 |
粒径、抛光布、时间和供液节奏固定后,流程更容易复现。 |
适合质量检测、来料分析和重复制样。 |
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0.25微米用于高要求细抛 |
适合放在1微米之后,用于进一步整理观察面。 |
粒径位置清楚,方便现场工程师把抛光流程固定下来。 |
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水基悬浮体系 |
配方以水基体系为基础,悬浮状态稳定。 |
日常使用和现场管理更轻松。 |
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与TOUCHLAM抛光布配套 |
可配合2TS4、3FV1、4FV3、4MP2等抛光布。 |
抛光液、抛光布和磨抛设备可以一起形成完整方案。 |
代表型号:NEODIA M 0.25微米

NEODIA M单晶金刚石抛光液
NEODIA M 0.25微米是单晶金刚石抛光液,0.25微米适合高要求细抛阶段,常用于1微米之后的表面进一步细化。这一系列适合常规金相制样和日常抛光,覆盖有色金属、黑色金属、PCB切片及部分复合材料样品,适合样品类型多、使用频率高、重视耗材成本的实验室。
NEODIA M 0.25微米的使用位置可按前道砂纸状态、材料硬度和目标观察面来判断。适合放在1微米之后,用于进一步整理观察面。在PCB切片这类有色金属加复合材料样品中,可结合铜层、树脂、玻纤和孔壁区域的表面状态来调整时间、压力和抛光布。
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项目 |
NEODIA M 0.25微米 |
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产品型号 |
NEODIA M 0.25微米,即1/4 M。 |
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金刚石类型 |
单晶金刚石。 |
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产品定位 |
经济型金刚石抛光液,适合常规金相抛光。 |
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推荐粒径 |
0.25微米(1/4 M),适合放在1微米之后,用于进一步整理观察面。 |
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适用材料 |
有色金属、黑色金属、PCB切片、常规金相样品。 |
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配套耗材 |
TOUCHLAM 2TS4、3FV1、4FV3、4MP2等抛光布。 |
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使用价值 |
适用面广,适合日常制样和经济型抛光流程。 |
NEODIA M 0.25微米适合的应用
0.25微米的重点在于高要求细抛。实际使用时,需要和前道砂纸、抛光布硬度、样品材料以及后续观察要求一起确认。
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应用方向 |
制样关注点 |
NEODIA M 0.25微米的使用位置 |
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高要求金相细抛 |
前道1微米抛光后仍需继续细化观察面。 |
用于最终抛光前的细化步骤。 |
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有色金属细节观察 |
铝、铜等材料对细划痕比较敏感。 |
在偏柔软抛光布上进行低压力细抛。 |
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涂层与边界样品 |
镀层、界面和边缘区域需要更清晰。 |
用于减小细划痕对边界判断的影响。 |
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质量复检样品 |
已完成精抛的样品需要进一步确认细节。 |
作为复检前的表面整理步骤。 |
推荐案例:高要求金相细抛
当样品经过3微米和1微米抛光后,观察面仍需要继续细化,可使用0.25微米金刚石抛光液进行高 要求细抛。这个步骤适合边界、涂层、孔壁和细小组织观察前的表面整理。
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制样阶段 |
耗材组合 |
使用目的 |
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前道精抛 |
TOUCHLAM 2TS4或3FV1 + 3微米金刚石抛光液。 |
去除P2400/P4000砂纸后的细划痕。 |
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细抛 |
TOUCHLAM 4FV3 + 1微米金刚石抛光液。 |
进一步细化观察面。 |
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高要求细抛 |
TOUCHLAM 4MP2或细抛光布 + 0.25微米金刚石抛光液。 |
整理更细的表面细节。 |
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最终确认 |
按材料需要接0.05微米氧化铝。 |
提升最终显微观察状态。 |
配套抛光布与供液方式
NEODIA M可与TOUCHLAM 2TS4、3FV1、4FV3等抛光布配套使用。现场可按样品数量和制样习惯选择手动滴加、喷雾或设备供液,重点是保持抛光布湿润状态、抛光液用量和制样时间稳定。

DISTRILAM自动供液系统
NEODIA M 0.25微米粒径衔接建议
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粒径 |
制样阶段 |
应用方向 |
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14微米 |
粗抛后段 |
适合前道划痕较深、需要较强去除的样品。 |
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9微米 |
前段抛光 |
适合前道划痕较明显、需要较快去除的样品。 |
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6微米 |
粗抛到精抛过渡 |
适合从研磨进入抛光的过渡步骤。 |
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3微米 |
常规精抛 |
适合P2400/P4000砂纸后的表面细化。 |
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2微米 |
精抛到细抛过渡 |
适合在3微米之后、1微米之前使用。 |
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1微米 |
细抛 |
适合精抛后的进一步细化。 |
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0.25微米 |
高要求细抛 |
适合更细的观察面整理。 当前型号所在粒径。 |
建立完整的金相抛光方案
NEODIA M适合作为常规金相抛光的经济型选择。对于有色金属、黑色金属和PCB切片等样品,可以按前道砂纸状态选择对应粒径,再根据观察要求接更细粒径或最终抛光。它适合样品范围广、使用频率高的日常制样流程。 其中NEODIA M 0.25微米适合高要求细抛,可作为常规金相与PCB切片中的固定粒径使用,让前道研磨、抛光和显微观察之间的衔接更稳。
产品介绍
PRODUCT INTRODUCTION